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MSK-TE1002-CDZ 粉末流体光学表征系统

应用范围：本系统对液体中的固体进行超细加工，应用范围涵盖了从200μm（最大500μm）到亚微米（纳米）的粒度范围的物料，粉碎系数可达1:10000（200μm->20nm），可实现包括液体中固体的润湿和均匀化、脱凝和分散，一直到原始颗粒的真研磨，机械密封，研磨腔可冷却（水冷或特殊溶剂冷却），监控研磨腔温度、压力数字方式显示功率、转速等工艺参数。系统还有堆积密度测试功能，对制备出粉体的流动性数据进行衡量。系统采用多重光散射原理，可以高浓度，不需要稀释的情况下，测量样品中颗粒粒径，并可以实时追踪样品中颗粒粒径随时间的变化以及颗粒的迁移速度，可实时监测高浓度样品（无需稀释），测试液体稳定性。

产品型号：MSK-TE1002-CDZ

设备尺寸：约L1500*W1000*H1500mm

上架时间：2021-12-07

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本系统对液体中的固体进行超细加工，应用范围涵盖了从200μm（最大500μm）到亚微米（纳米）的粒度范围的物料，粉碎系数可达1:10000（200μm->20nm），可实现包括液体中固体的润湿和均匀化、脱凝和分散，一直到原始颗粒的真研磨，机械密封，研磨腔可冷却（水冷或特殊溶剂冷却），监控研磨腔温度、压力数字方式显示功率、转速等工艺参数。系统还有堆积密度测试功能，对制备出粉体的流动性数据进行衡量。系统采用多重光散射原理，可以高浓度，不需要稀释的情况下，测量样品中颗粒粒径，并可以实时追踪样品中颗粒粒径随时间的变化以及颗粒的迁移速度，可实时监测高浓度样品（无需稀释），测试液体稳定性。

功能特点

ZETA研磨方式;
机械密封，研磨腔可冷却（水冷或特殊溶剂冷却）;
监控研磨腔温度、压力;
数字方式显示功率、转速等工艺参数;
具备三种工位：垂直位（装料）、水平位（研磨）、倾斜位（出料）。操作简便，清洁;
设备采用多重光散射原理，静置垂直扫描的测量模式;
样品无需预处理（无注射、剪切、稀释等预处理操作）;
样品检测过程为非破坏性检测（无需离心，震荡等方法）;
石英玻璃样品池，可以清洗重复使用，样品测量体积1-20ml，配有定位样品池盖，具有旋转定位能力;
具有透射光和背散射光同步双检测器，可以同时接收透射光和背散射光信号;
具有稳定的数据采集功能，可以间歇式测量，长期数据追踪（样品从仪器中取出后，可以再次放入测量，不改变样品位置）;
可进行定点分析，并且数据采集时间隔不大于 1s;
具有内置标准品，无需每次手动校验，仪器每次开机自动完成校验;
检测过程对于检测样品没有粘度的限制;
具有整体稳定性指数，底部稳定性指数，顶部稳定性指数，以及中部稳定性指数，以及任意位置稳定性指数，不但可以反映样品整体稳定性程度也可以反映局部的稳定性程度;
具有分散度指数，用于反映样品中分散相在体系内的分散均匀性程度，可以表征样品的分散工艺适应性;
可动画模拟显示样品的稳定性变化全过程，可以直观反映样品的稳定性变化的全过程;
可显示样品光子自由程l*，用于辨识样品的测试深度;
提供不同团聚类型和分层类型对应的特征谱图，指引样品不稳定的原因;
具有雷达图显示模式，可以直观显示样品的主要稳定性问题及不同样品间的差别;
具有中英文多语言软件环境互相切换功能;
具有常规物质参数数据库;
符合GB/T38431-2019分散体系稳定性评价方法（国标内指出检测核心由一个光源、两个检测器组成）.

技术参数
电源	AC220V，50Hz，2KW
砂磨工位功率	1.5KW
速度范围	1000-4200转/min
磨削介质直径	0.05-2mm
研磨介质量	140ml
批量循环量	250-500ml
间歇量	135-140ml
粒子浓度	无破坏条件下可以测量的浓度0-95%（V/V）
可测量粒径范围	0.05-1000um
可控制温度范围	环境温度+5°C到最高60°C 温控精度：±0.5°C，非油浴水浴控温
分析站数量	两个
振动频率	0-260rpm/min（可调）
振幅	0-3mm（可调）
振动计数器	1-999999
运行方式	平台旋转，自动
量筒规格	标配250ml两个;可选10ml、25ml、50ml、100ml、500ml、1000ml等量筒，以适于不同种类样品测试
设备尺寸	约L1500W1000H1500mm

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实验设备

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