实验设备

● 结构紧凑、小型化的桌上型仪器
● 用各种气体清洗和去除晶片上纳米级有机污染物。
● 在制膜实验之前预先清洁镀膜基底的优秀工具。清洗后镀膜的质量可以更好。
● 铰链式门，方便装样
● 石英腔的直径是3英寸，在里面可以放入一个石英舟，最大清洗一个2英寸的基片。
● 清洗腔里面的石英管可以拆卸，方便清洗和更换
● 使用可调射频电源，可以设置功率为低、中、高级别；低成本、操作安全。

● 低功率设定：直流680V，10mA,6.8W;
● 中功率设定：直流700V，15mA,10.5W;
● 高功率设定：直流720V，25mA,18W;
● 射频源输出频率：13.56MHz;
● 等离子直流电源：
● 输入电压：220V,50Hz

● 直径75mmx长200mm的石英墙体，前盖可以开启。
● 高纯度石英腔体，使用寿命比玻璃长。

设备标配一个数显电阻真空机用于实时监测清洗仓内的真空度。

● 您可以订购额外的石英腔体，用于备用。
● 如果需要一个通入两种气体的工艺解决方案，PDC-36G等离子清洗机可以与2路混气系统组合（点击下面第一张图片了解详情）
● 您可以订购石英晶片载体来清洁2英寸晶片

此设备不包含真空泵。

● 多种气体可以用于等离子清洗，例如氮气、氩气、空气、混合气体，主要取决于处理何种材料。
● 可以使用<4％的H2混合惰性气体
● 警示：不能使用可燃性及腐蚀性气体。

353mm（L）x380mm（W）x225mm （H）

（不含泵）8kg

CE认证