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VTC-600-3HD 三靶磁控溅射仪

应用范围:VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪是最新研制开发的镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。与同类设备相比,其不仅应用广泛,且具有体积小便于操作的优点,是一款实验室制备材料薄膜的理想设备,特别适用于实验室研究固态电解质及OLED等。

产品型号 :VTC-600-3HD

上架时间 :2019-08-19

安装尺寸:L1300mm× W 660mm× H 1200mm

重量:160 kg

产品简述 产品详情 产品视频 留言咨询

       VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪是最新研制开发的镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。与同类设备相比,其不仅应用广泛,且具有体积小便于操作的优点,是一款实验室制备材料薄膜的理想设备,特别适用于实验室研究固态电解质及OLED等。

 性能指标和基本配置
主要特点

● 可制备多种薄膜,应用广泛
● 体积小,操作简便
● 真空腔室、真空泵组整机模块化设计 ,控制电源为分体式设计,可根据用户实际需要调整购买需求。
● 可根据用户实际需要选择电源,可以一个电源控制多个靶枪,也可多个电源单一控制靶枪,购买前请联系雷速体育app官方下载销售。

磁控溅射头

● 仪器中安装有2个2英寸磁控溅射头,而且都带有水冷夹层(图一)
● 一个溅射头与射频电源相连接,主要是溅射绝缘性靶材
● 另一个溅射头与直流电源相连接,主要溅射导电性靶材
● 靶材尺寸要求:直径为50mm,厚度0.1-5mm(因靶材材质不同厚度有所不同)
● 可以单独订购RF连接线作为备用(图二)
● 设备包含一台水冷机,用于靶头冷却(图三)
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               图1                          图2                             图3

载样台

● 载样台尺寸:φ140mm(最大可放置4"的基底)
● 载样台可以旋转,其速度为:1 - 20 rpm (可调)
● 载样台最高可加热温度为500℃
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RF/DC电源

此设备安装有三个溅射电源,根据客户需求可选(以下两款射频电源可任意组合使用)
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真空腔体

● 真空腔体:φ300 mm  x 300 mm H,采用不锈钢制作
● 观察窗口:φ100 mm
● 腔体打开方式采用上顶开,使得换靶更加容易
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气体流量控制器

● 仪器内部安装有2个质量流量计,量程为:0-100sccm
● 气体流量设置可以在6英寸的触摸屏上进行操作
● 此系统运行需要Ar气,并且气瓶上安装有减压阀(设备中不包含)
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真空系统

● 配有一套GZK-103D分子泵系统(德国制作)
● 标准5E-5mbar 极限7.4E-6mbar(仅供参考,详情请点击)
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薄膜测厚仪(可选)

● 一个精密的石英振动薄膜测厚仪安装在仪器上,可实时监测薄膜的厚度,分辨率为0.10 Å
● LED显示屏显示,同时也输入所制作薄膜的相关数据
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产品尺寸

L 1300mm× W 660mm× H 1200mm

净重 160 kg
使用提示

● 此设备为DIY设备,参数变化较大购买前请务必电话仔细沟通
● 为了得到较好的薄膜质量,必须通入高纯气体(建议> 5N)
● 在溅射镀膜前,确保溅射头、靶材、基片和样品台的洁净
● 要达到薄膜与基底良好结合,请在溅射前清洁基材表面
● 超声波清洗(详细参数点击下面图片):(1)丙酮超声(2)异丙醇超声-去除油脂(3)吹氮气干燥(4)真空烘箱除去水分。
● 等离子清洗(详细参数点击下面图片):可表面粗糙化,可激活表面化学键,可祛除额外的污染物。
● 制造一个薄的缓冲层(5纳米左右):如Gr,Ti,Mo,Ta,可以应用于改善金属和合金的附着力
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     超声波清洗机        等离子清洗机               蒸镀仪                     手套箱

警告

● 注意:产品内部安装有高压元件,禁止私自拆装,带电移动机体。
● 气瓶上应安装减压阀(设备标配不包括),保证气体的输出压力限制在0.02兆帕以下,以安全使用。
● 溅射头连接到高电压。为了安全,操作者必须在关闭设备前装样和更换靶

认证

1CE认证

保修期 一年保修,终身技术支持。
特别提示:
1.耗材部分如加热元件,石英管,样品坩埚等不包含在内。
2.因使用腐蚀性气体和酸性气体造成的损害不在保修范围内

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