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VTC-3RF 三靶射频磁控溅射镀膜仪

应用范围:VTC-3RF三靶射频磁控溅射镀膜仪,配有磁控等离子溅射头和射频(RF)等离子电源,此款设备主要用于制作非导电薄膜,特别是一些氧化物薄膜。对于新型非导电薄膜的探索,它是一款廉价并且高效的实验帮手。

产品型号 :VTC-3RF

上架时间 :2019-08-16

安装尺寸:700mm L x 770 mm W x 1900 mm H

重量:80Kg(不包括泵)

产品简述 产品详情 产品视频 留言咨询

       VTC-3RF三靶射频磁控溅射镀膜仪,配有磁控等离子溅射头和射频(RF)等离子电源,此款设备主要用于制作非导电薄膜,特别是一些氧化物薄膜。对于新型非导电薄膜的探索,它是一款廉价并且高效的实验帮手。

 性能指标和基本配置
主要特点

● 标配的石英腔体(也可选配金属腔体)方便观察(图1)
● 相比传统溅射仪,体积小巧,拆装方便(图2)
● 模块化设计,靶头,电源等多种可选,自由DIY(图3)
● 基台可旋转可加热
● 可溅射金属和氧化物。实验室已初步制备了 氧化锌、碲化铋、ITO、ATO、AU、Ag、Cu、Al、Mg、Sc等薄膜。
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                  图1                             图2                               图3

基本参数

● 输入电源:220V AC50/60Hz
● 设备功率:<1500W
● 靶台加热温度:500℃
● 样品台转速:0-10r/min
● 靶头可调倾角:0-25度
● 溅射腔体尺寸:278mm OD x 272mm ID x310mm H。
● 靶材尺寸要求:1英寸磁控溅射靶头Φ25.4mm ×(0.1-3)mm(厚度)
                           2英寸磁控溅射靶头Φ50mm ×(0.1-3)mm(厚度)
● 最高使用功率:1英寸磁控溅射靶头100W
                           2英寸磁控溅射靶头300W

机体结构

● 设备配备三个直流射频通用靶头,1英寸2英寸尺寸可选。
● 仪器中安装有直径为50mm的不锈钢可旋转样品台,最高加热温度是500℃(图1)
● 配有300W自动匹配射频电源和500W的直流溅射电源(可自由选择)(图2)
● 设备上配1/4英寸进气口方便连接气瓶(图3)
● 配有靶头电动升降台(图4)
● 配有高纯石英密封罩(图5)
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            图1                         图2                              图3                                 图4                      图5

产品尺寸

700mm L x 770 mm W x 1900 mm H
1

净重 80 kg(不包括泵)
认证

CE认证

保修期 一年保修,终身技术支持。
特别提示:
1.耗材部分如加热元件,石英管,样品坩埚等不包含在内。
2.因使用腐蚀性气体和酸性气体造成的损害不在保修范围内

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